Journal Of Electrostatics

SCIE

按雜志級別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)

4區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
53 年發(fā)文量
98.11% 研究類文章占比
19.59% Gold OA文章占比

ISSN：0304-3886

創(chuàng)刊時間：1975

是否預警：否

E-ISSN：1873-5738

出版地區(qū)：NETHERLANDS

是否OA：未開放

出版語言：Multi-Language

出版周期：Monthly

影響因子：1.9

出版商：Elsevier

審稿周期：約3.0個月約6周

CiteScore：4

H-index：70

出版國人文章占比：0.12

開源占比：0.0628

文章自引率：0.1111...

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Journal Of Electrostatics雜志簡介

Journal Of Electrostatics是由Elsevier出版商主辦的工程技術領域的專業(yè)學術期刊，自1975年創(chuàng)刊以來，一直以高質量的內容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號（ISSN：0304-3886，E-ISSN：1873-5738），出版周期Monthly，其出版地區(qū)設在NETHERLANDS。該期刊的核心使命旨在推動工程技術專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學科界的教育研究與實踐經驗的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學術論文，提倡學術爭鳴，激發(fā)學術創(chuàng)新，開展國際間學術交流，為工程技術領域的發(fā)展注入活力。

該期刊文章自引率0.1111...，開源內容占比0.0628，出版撤稿占比0，OA被引用占比0.0178...，讀者群體主要包括工程技術的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術領域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學術背景和興趣。Journal Of Electrostatics已被國際權威學術數(shù)據(jù)庫“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內的學者和研究人員檢索和引用，有助于推動ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領域的研究進展和創(chuàng)新發(fā)展。

收錄信息

SCIE（科學引文索引擴展板）

CiteScore（2024年最新版）

CiteScore：4
SJR：0.426
SNIP：1.029

學科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q2	182 / 434	58%
大類：Physics and Astronomy 小類：Electrical and Electronic Engineering	Q2	335 / 797	58%
大類：Physics and Astronomy 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials	Q2	134 / 284	52%
大類：Physics and Astronomy 小類：Surfaces, Coatings and Films	Q2	63 / 132	52%
大類：Physics and Astronomy 小類：Biotechnology	Q3	167 / 311	46%

CiteScore: 這一創(chuàng)新指標力求提供更為全面且精確的期刊評估，打破了過去僅依賴單一指標如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個學科領域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標準化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個指標的詳細信息。

CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對比

Journal Of Electrostatics中科院分區(qū)表

中科院分區(qū) 2023年12月升級版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2022年12月升級版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月基礎版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2021年12月升級版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	3區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級版

大類學科	分區(qū)	小類學科	分區(qū)	Top期刊	綜述期刊
工程技術	4區(qū)	ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣	4區(qū)	否	否

中科院分區(qū)表歷年分布趨勢圖

WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）

按JIF指標學科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	211 / 352	40.2%

按JCI指標學科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC	SCIE	Q3	200 / 354	43.64%

JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國際通用和公認的期刊分區(qū)標準。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫，按照期刊的影響因子進行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標準與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個學科，每個學科又按照影響因子高低分為四個區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。

歷年發(fā)文數(shù)據(jù)

年份	年發(fā)文量
2014	71
2015	129
2016	72
2017	117
2018	81
2019	57
2020	82
2021	67
2022	74
2023	53

期刊互引關系

被他刊引用情況
期刊名稱	引用次數(shù)
J ELECTROSTAT	171
POWDER TECHNOL	126
J PHYS D APPL PHYS	56
IEEE T PLASMA SCI	51
NANO ENERGY	43
INT J HEAT MASS TRAN	41
ADV POWDER TECHNOL	40
CHEM ENG SCI	32
SEP PURIF TECHNOL	32
APPL SCI-BASEL	30

引用他刊情況
期刊名稱	引用次數(shù)
J ELECTROSTAT	171
IEEE T IND APPL	60
J PHYS D APPL PHYS	43
IEEE T DIELECT EL IN	40
J APPL PHYS	34
INT J HEAT MASS TRAN	32
POWDER TECHNOL	32
CHEM ENG SCI	19
IEEE T PLASMA SCI	19
PLASMA SOURCES SCI T	19