國(guó)際應(yīng)用電磁學(xué)與力學(xué)雜志
國(guó)際簡(jiǎn)稱：INT J APPL ELECTROM
International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics
SCIE
按雜志級(jí)別劃分： 中科院1區(qū) 中科院2區(qū) 中科院3區(qū) 中科院4區(qū)
- ISSN：1383-5416
- 創(chuàng)刊時(shí)間：1995
- 是否預(yù)警：否
- E-ISSN：1875-8800
- 出版地區(qū)：NETHERLANDS
- 是否OA：未開放
- 出版語言：English
- 出版周期：Quarterly
- 影響因子：1.1
- 出版商：IOS Press
- 審稿周期： 約3.0個(gè)月
- CiteScore：1.7
- H-index：26
- 開源占比：0.0056
International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics雜志簡(jiǎn)介
International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics是由IOS Press出版商主辦的工程技術(shù)領(lǐng)域的專業(yè)學(xué)術(shù)期刊，自1995年創(chuàng)刊以來，一直以高質(zhì)量的內(nèi)容贏得業(yè)界的尊重。該期刊擁有正式的刊號(hào)（ISSN：1383-5416，E-ISSN：1875-8800），出版周期Quarterly，其出版地區(qū)設(shè)在NETHERLANDS。該期刊的核心使命旨在推動(dòng)工程技術(shù)專業(yè)及ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC學(xué)科界的教育研究與實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的交流，發(fā)表同行有創(chuàng)見的學(xué)術(shù)論文，提倡學(xué)術(shù)爭(zhēng)鳴，激發(fā)學(xué)術(shù)創(chuàng)新，開展國(guó)際間學(xué)術(shù)交流，為工程技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展注入活力。
該期刊文章自引率0，開源內(nèi)容占比0.0056，出版撤稿占比0，OA被引用占比0，讀者群體主要包括工程技術(shù)的專業(yè)人員，研究生、本科生以及工程技術(shù)領(lǐng)域愛好者，這些讀者群體來自全球各地，具有廣泛的學(xué)術(shù)背景和興趣。International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics已被國(guó)際權(quán)威學(xué)術(shù)數(shù)據(jù)庫(kù)“ SCIE（Science Citation Index Expanded） ”收錄，方便全球范圍內(nèi)的學(xué)者和研究人員檢索和引用，有助于推動(dòng)ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的研究進(jìn)展和創(chuàng)新發(fā)展。
CiteScore（2024年最新版）
- CiteScore：1.7
- SJR：0.222
- SNIP：0.401
| 學(xué)科類別 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 大類：Engineering 小類：Mechanical Engineering | Q3 | 438 / 672 |
34% |
| 大類：Engineering 小類：Electrical and Electronic Engineering | Q3 | 549 / 797 |
31% |
| 大類：Engineering 小類：Mechanics of Materials | Q3 | 276 / 398 |
30% |
| 大類：Engineering 小類：Condensed Matter Physics | Q3 | 321 / 434 |
26% |
| 大類：Engineering 小類：Electronic, Optical and Magnetic Materials | Q3 | 212 / 284 |
25% |
CiteScore: 這一創(chuàng)新指標(biāo)力求提供更為全面且精確的期刊評(píng)估，打破了過去僅依賴單一指標(biāo)如影響因子的局限。它通過綜合廣泛的引用數(shù)據(jù)，跨越多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域，從而確保了更高的透明度和開放性。作為Scopus中一系列期刊指標(biāo)的重要組成部分，包括SNIP（源文檔標(biāo)準(zhǔn)化影響）、SJR（SCImago雜志排名）、引用文檔計(jì)數(shù)以及引用百分比。Scopus整合以上指標(biāo)，幫助研究者深入了解超過22,220種論著的引用情況。您可在Scopus Joumal Metrics website了解各個(gè)指標(biāo)的詳細(xì)信息。
CiteScore分區(qū)值與影響因子值數(shù)據(jù)對(duì)比
International Journal Of Applied Electromagnetics And Mechanics中科院分區(qū)表
中科院分區(qū) 2023年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2022年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2021年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū) 2020年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 MECHANICS 力學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)表歷年分布趨勢(shì)圖
WOS期刊JCR分區(qū)（2023-2024年最新版）
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 278 / 352 |
21.2% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 137 / 170 |
19.7% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 152 / 179 |
15.4% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q4 | 319 / 354 |
10.03% |
| 學(xué)科：MECHANICS | SCIE | Q4 | 152 / 170 |
10.88% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q4 | 164 / 179 |
8.66% |
JCR（Journal Citation Reports）分區(qū)，也被稱為JCR期刊分區(qū)，是由湯森路透公司（現(xiàn)在屬于科睿唯安公司）制定的一種國(guó)際通用和公認(rèn)的期刊分區(qū)標(biāo)準(zhǔn)。JCR分區(qū)基于SCI數(shù)據(jù)庫(kù)，按照期刊的影響因子進(jìn)行排序，按照類似等分的方式將期刊劃分為四個(gè)區(qū)：Q1、Q2、Q3和Q4。需要注意的是，JCR分區(qū)的標(biāo)準(zhǔn)與中科院JCR期刊分區(qū)（又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）存在不同之處。例如，兩者的分區(qū)數(shù)量不同，JCR分為四個(gè)區(qū)，而中科院分區(qū)則分為176個(gè)學(xué)科，每個(gè)學(xué)科又按照影響因子高低分為四個(gè)區(qū)。此外，兩者的影響因子取值范圍也存在差異。
歷年發(fā)文數(shù)據(jù)
| 年份 | 年發(fā)文量 |
| 2014 | 259 |
| 2015 | 192 |
| 2016 | 313 |
| 2017 | 206 |
| 2018 | 155 |
| 2019 | 290 |
| 2020 | 318 |
| 2021 | 119 |
| 2022 | 99 |
| 2023 | 136 |
期刊互引關(guān)系
| 被他刊引用情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| INT J APPL ELECTROM | 331 |
| IEEE ACCESS | 55 |
| IEEE T MAGN | 43 |
| SENSORS-BASEL | 24 |
| PHYSICA A | 23 |
| AIP ADV | 20 |
| ENERGIES | 18 |
| J MAGN MAGN MATER | 18 |
| SMART MATER STRUCT | 18 |
| APPL SCI-BASEL | 15 |
| 引用他刊情況 | |
| 期刊名稱 | 引用次數(shù) |
| IEEE T MAGN | 529 |
| INT J APPL ELECTROM | 331 |
| J MAGN MAGN MATER | 101 |
| IEEE T IND ELECTRON | 94 |
| IEEE T IND APPL | 90 |
| NDT&E INT | 85 |
| J APPL PHYS | 79 |
| SMART MATER STRUCT | 70 |
| SENSOR ACTUAT A-PHYS | 42 |
| IEEE T ENERGY CONVER | 40 |
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